Mit dem kompakten Polarisationsfilter für DUV-Lithografie liefert die Steinmeyer-Gruppe aus Dresden eine Lösung, die Präzision, Partikelarmut und Zuverlässigkeit in Silicon Saxony neu definiert. Auf nur 120 × 180 × 31 mm bietet das nachrüstbare Modul drei unabhängig verfahrbare Filterpositionen mit 1,5 µm Reproduziergenauigkeit. Trockenlaufende Edelstahl-PEEK-Gleitgewindetriebe erlauben stickstoffinerten Betrieb und liefern wartungsfreien 24/7-Einsatz über Jahre hinweg bei minimalem Verschleiß ohne Flüssigschmierung. Sie gewährleisten dadurch langfristig stabile Belichtungsprozesse unter rauen Reinraumbedingungen.
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Dresdner Antriebsexperten bieten kundenindividuelle Präzisionspositionierung mit umfassender jahrhundertelanger Erfahrung
Der Gleitgewindetrieb hat einen Spindeldurchmesser von 3 mm (Foto: Steinmeyer Gruppe)
Seit Jahrzehnten prägt die Steinmeyer-Gruppe aus Dresden die Entwicklung kundenspezifischer Positionierlösungen für die Halbleiterbranche. Als Kernmitglied des größten europäischen IKT- und Mikroelektronik-Komplexes im Silicon Saxony kombiniert das Unternehmen mehr als vier Jahrhunderte Expertise in Antriebstechnik, Positionierung und Präzisionsmesstechnik. Gemeinsam mit dem Partner Feinmess Suhl entstehen hochreine, langlebige Systeme mit mikrometergenaue Wiederholgenauigkeit, die selbst strengste Anforderungen an Partikelarmut, Stabilität und Präzision übertreffen. Sie unterstützen komplexe Fertigungsprozesse und optimieren Durchsatz sowie Zuverlässigkeit.
Miniaturisierte 120×180×31 mm Filtereinheit für automatisierte DUV-Belichtungssysteme in kompakten Wafer-Steppern
Die kompakte Polarisationsfiltereinheit misst lediglich 120 × 180 × 31 mm und nutzt eine Bauhöhe von 15 mm, um drei flächige Filter einzuschließen. Jeder Filter verfügt über einen eigenen Verfahrweg von bis zu 75 mm und lässt sich unabhängig verschieben. Als Antrieb dienen drei elektronisch kommutierte DC-Motoren, die über Gleitgewindetriebe eine genaue Strahlanpassung gewährleisten. Diese Nachrüstlösung erlaubt eine einfache Integration an vorhandenen Wafer-Steppern für automatisierte DUV-Prozesse und Flexibilität. Zusätzlich.
Nur Materialien mit glatten, ausgasungsarmen Oberflächen gewährleisten minimale Partikelbildung
Die Kombination aus nicht-rostendem Edelstahl (Spindel) (Foto: Feinmess Suhl GmbH)
Im sauerstofffreien Stickstoffbetrieb werden tribologische Bedingungen erzeugt, die mit Hochvakuum vergleichbar sind. Deshalb müssen alle eingesetzten Materialien eine perfekt ebene Oberfläche, minimale Ausgasung und extrem geringe Partikelfreisetzung aufweisen. Steinmeyer und Feinmess Suhl wählten für diese Anwendung eine Kombination aus korrosionsbeständigem Edelstahl und PEEK-Muttern mit eingebrachten Schmierfüllstoffen. Diese Werkstoffpaarung garantiert hervorragende Gleitleistung, zuverlässige Wärmeableitung und dauerhafte mechanische Festigkeit vollständig ohne Einsatz von Flüssigschmierstoffen unter extremen Prozessbedingungen auch langfristig zuverlässig und wartungsarm.
Spanlos kalt umgeformter Gleitgewindetrieb erzielt minimale Verschleißwerte über Jahre
Der neue Gleitgewindetrieb von Feinmess Suhl basiert auf einem M3x1P0.5-Gewinde mit 3 mm Durchmesser und 112 mm Länge, geformt im spanlosen Kaltumformverfahren. Diese Technologie erzeugt höchste Oberflächengüte und minimiert Abrieb, was die Lebensdauer verlängert. Eine integrierte Selbsthemmung erlaubt exakte Positionierung ohne externe Bremsen und erreicht eine Wiederholgenauigkeit von 1,5 µm. Sein stabiler, korrosionsbeständiger Aufbau erfüllt Anforderungen für einen wartungsarmen Betrieb über zehn Jahre.
ISO Klasse 6 Reinräume und Stickstoffverpackung sichern partikelarmen Versand
Ultrakompakte, hochpräzise Positionierlösung zur Wafer-Belichtung (Foto: Bild: Steinmeyer Gruppe)
Die Komponenten werden vakuumgerecht designt und anschließend in einen ISO Klasse 6 Reinraum überführt, um Montage unter kontrollierten Bedingungen zu garantieren. Nach Fertigstellung erfolgt eine Reinigung gemäß ISO 14644-1 Klasse 1, um sämtliche Partikel zu eliminieren. Auf mehr als 3.900 Quadratmetern Reinraumfläche lassen sich flexible Produktionslinien realisieren. Für den Transport verwendet das Team Inertgasverpackung auf Stickstoffbasis, um eine kontaminationsfreie Zustellung zu gewährleisten und schnelle, kosteneffiziente Lösungen für individuelle Anforderungen.
Anwendungsspezifische Gleit- und Kugelgewindetriebe sichern zuverlässige Wafer- und Chipherstellung
Die Steinmeyer-Gruppe kombiniert unter der Marke August Steinmeyer trockengleitschmierte Gleitgewindetriebe mit Flüssigschmierung in präzisen Kugelgewindetrieben. Dieses Technologieportfolio bietet ein breites Spektrum an Antriebsoptionen für anspruchsvolle Halbleiterprozesse. Ob beim Handling empfindlicher Wafer, in berührungsarmen Inspektionssystemen oder hochauflösender EUV-Positionierung, die anwendungsspezifische Wahl erlaubt eine optimale Balance aus Performance, Verschleißarmut und Schmierkomfort. Dank modularen Aufbaus und umfassender Engineering-Expertise liefern die Systeme langlebige, wirtschaftliche und höchstzuverlässige Lösungen für Wafer- und Chip-Fertigung mit maximaler Effizienz.
Mit nur 120 × 180 × 31 mm Baugröße vereint der DUV-Polarisationsfilter hochpräzise Gleitgewindetriebe aus Edelstahl und PEEK mit trockenem Stickstoffbetrieb für saubere Atmosphäre. Drei unabhängige Filterpositionen werden elektronisch kommutiert über DC-Motoren angetrieben und bieten 1,5 µm Wiederholgenauigkeit. Reinraumfertigung nach ISO 14644-1 Klasse 1 garantiert minimale Partikelzahl. Das modulare Add-on ermöglicht einfache Nachrüstung in Wafer-Steppern, sorgt für wartungsfreien Dauerbetrieb und unterstreicht Silicon Saxonys Innovationsstärke. Anwender profitieren dauerhaft von erhöhter Prozesssicherheit.
